科目名[英文名]
化学システム工学実験Ⅱ   [Chemical Engineering Experiment Ⅱ]
区分	共通科目	選択必修		単位数	2
対象学科等		対象年次	～	開講時期	後学期
授業形態	後学期	時間割番号	106i0813
責任教員 [ローマ字表記]
清水 大雅   [SHIMIZU Hiromasa]
所属	農学部附属硬蛋白質利用研究施設	研究室	2-203	メールアドレス

概要

技術をはじめとする知的創作活動の成果は、私たちの社会に豊かさをもたらすとともに、それらの知的財産を活用する企業に価値創造と収益の機会を提供している。技術を基盤とする経営において、知的財産の適切な取り扱いは必要不可欠である。 この科目では、法律に関する基本事項、知的財産権制度の知的財産を保護する機能及び知的財産情報を普及する機能とこれらの機能の活用方法について基礎的な事項を学び、研究開発あるいは商品製造過程で求められる知的財産管理に関する基礎知識の修得とスキル形成を行う。 講義は、単なる法制度の理解のほか，効果的な権利化，権利範囲の解釈，法律を踏まえた契約における条項の検討，知財情報の取得と分析，知的財産の戦略的活用等に関する基本的な実務能力獲得を目指す。

到達基準

１．知的財産権の基礎的な概要について理解している。 ２．知的財産管理・活用の基本的な対応能力が形成される。 ３．知的財産権について問題意識を高くもつことができる。 ４．パテントマップ等から技術開発動向の把握・分析を行い、簡単な事業・研究開発戦略の検討ができる。

授業内容

第１回　ガイダンス　自己紹介、授業の進め方、法律・知的財産権の概要等 第２回　知的財産権制度と歴史　知的財産権制度の概要とその歴史について 第３回　特許法１　特許法の全体像について 第４回　特許法２　特許権取得のための主要な特許要件について 第５回　特許情報１　特許分類や特許検索の基本的方法について 第６回　特許情報２　特許情報検索及び検索結果の分析について演習 第7回　特許法３　特許権の概要と基本的な活用方法、侵害訴訟における基本的攻防について 第８回　意匠法　意匠法の全体像、意匠権の活用事例 第９回　商標法　商標法の全体像、商標権の活用事例 第１０回　独占禁止法・不正競争防止法等　知的財産の活用に関する独占禁止法上の指針、ノウハウの保護等 第１１回　知的財産権に関わる契約　知的財産権に関連する契約の概要・意義 第１２回　標準化戦略　標準の全体像、標準化戦略の事例 第１３回　著作権法　著作権法の全体像、著作権の事例 第１４回　条約　知的財産に関する条約（パリ条約、ＰＣＴ条約など） 第１５回　総合演習　期末レポートの個別発表及び質疑応答 ＊なお、受講生の理解度やJ-platpatのメンテナンス期間等の状況により、進行状況が変更する場合があります。

履修条件・関連項目

特になし

テキスト・教科書

教科書はありません、　資料に基づき講義を行います。

参考書

・特許庁「知的財産権制度入門　２０２２年度」（特許庁ＨＰよりダウンロード可） ・発明推進協会「産業財産権標準テキスト　総合編　第５版」 その他、講義中に適宜紹介予定。

成績評価の方法

講義への参加姿勢（講義内に実施する演習・グループディスカッション等に対する取組）、総合演習におけるプレゼンテーション、期末レポート等を総合的に勘案して行い、本学が定める標準的な学修効果が認められる場合に単位を付与します。 平常点30％、総合演習におけるプレゼンテーション35％、期末レポート35％で評価します。 成績評価は、5点法により行います。S:90点以上、A：80点以上90点未満、B:70点以上80点未満、C:60点以上70点未満。出席率が70％未満の学生に対して成績の付与は行いません。

教員から一言

入門・基礎的な内容が中心ですので、知的財産に興味があれば大丈夫です。一歩ずつ学んでいきましょう！成績評価方法の記載に関連しますが、講義内のグループディスカッションに積極的に参加してください。

キーワード

オフィスアワー

備考１

＊なお、受講生の理解度やJ-platpatのメンテナンス期間等の状況により、進行状況が変更する場合があります。

備考２

参照ホームページ

開講言語

日本語

語学学習科目

更新日付

2023/04/06 13:14:10